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X射線熒光光譜儀

日本理學波長色散X射線熒光光譜儀能量色散型X射線熒光光譜儀便攜式x熒光光譜儀手持式X熒光光譜儀儀器

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帶你了解手持式合金分析儀的原理和用途掃描電鏡的樣品制備應該符合哪些條件？高精度能量色散型X射線熒光光譜儀——SPECTRO XEPOS X射線熒光光譜儀各個部件的維護方法是什么揭秘微觀世界的窗口：掃描電子顯微鏡sem 斯派克直讀光譜儀的測量誤差可分為哪幾種

詳細介紹

品牌	Rigaku/理學	行業專用類型	地質巖礦
價格區間	面議	儀器種類	臺式/落地式
應用領域	化工,石油,地礦,鋼鐵/金屬,汽車及零部件

日本理學連續波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400產品描述：

Rigaku ZSX Primus 400 連續波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀專為處理非常大或重的樣品而設計。該系統可接受直徑最大為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質量為 30 千克的樣品，非常適合分析濺射靶材、磁盤，或用于多層薄膜計量或大型樣品的元素分析。

連續波長色散X射線熒光光譜儀

優點：

帶有定制樣品適配器系統的 XRF,適應特定樣品分析需求的多功能性，可使用可選適配器插件適應各種樣品尺寸和形狀。憑借可變測量點（直徑 30 毫米至 0.5 毫米，具有 5 步自動選擇）和具有多點測量的映射功能以檢查樣品均勻性。

具有可用相機和特殊照明的 XRF,可選的實時攝像頭允許在軟件中查看分析區域。

仍保留了傳統儀器的所有分析能力。

安全性：

采用上照射設計,樣品室可簡單移出，再不用擔心污染光路，清理麻煩和增加清理時間等問題。

應用領域：

固體、液體、粉末、合金和薄膜的元素分析。

濺射靶材組成。

隔離膜：SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si?N?、SiOF、SiON等。

高 k 和鐵電介質薄膜：PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx。

金屬薄膜：Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。

電極膜：摻雜多晶硅（摻雜劑：B、N、O、P、As）、非晶硅、WSix、Pt等。

其他摻雜薄膜（As、P）、困惰性氣體（Ne、Ar、Kr等）、C（DLC）。

鐵電薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR；PCM、GST、GeTe。

焊料凸點成分：SnAg、SnAgCuNi。

MEMS：ZnO、AlN、PZT的厚度和成分。

SAW器件工藝：AlN、ZnO、ZnS、SiO 2（壓電薄膜）的厚度和成分；Al、AlCu、AlSc、AlTi（電極膜）。

日本理學連續波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400技術參數：

大樣本分析：最大 400 毫米（直徑），最大 50 毫米（厚度），高達 30 千克（質量）

樣品適配器系統，適用于各種樣本量

測量點：30 毫米至 0.5 毫米直徑，5步自動選擇

映射能力，允許多點測量

樣品視圖相機（可選）

分析范圍：Be - U

元素范圍：ppm 至 %

厚度范圍：sub ? 至 mm

衍射干擾抑制（可選）：單晶襯底的準確結果

符合行業標準：SEMI、CE標志

占地面積小，以前型號的 50% 占地面積

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